无锡半导体研磨抛光微粉

其中我司拥有自主知识产权的MCA（平板状氧化铝研磨微粉）系列产品的**技术，该产品填补了国内在磨料上的空白，改变了我国长期依赖进口的局面，产品稳定供应国内企业并出口美国欧洲日本、韩国，马来西亚，中国台湾等地。
平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途:MCA产品特别适合研磨、抛光半导体单晶多晶硅片、显像管玻壳玻屏、水晶、石英玻璃、硬质玻璃、光学玻璃、液晶显示器（LCD）玻璃基板、压电石英晶体、化合物半导体材料、精密陶瓷材料、轴承球、衬、蓝宝石，磁性材料等。同时它还可做烧结陶瓷原料、高温涂料(油漆,密封胶,化妆品)的填充材料

平板氧化铝可以用于化妆品， 平板状氧化铝具有较小的粒度和厚度分布以及较大的径厚比，它的化学性能稳定，几乎无色而且表面光滑平整，在水中具有良好的分散性，为重要的是，这种粉体无毒无味，因此也被广泛应用于化妆品领域。平板状氧化铝作为一种可以改良化妆品导热性的添加剂，不仅可以使化妆品呈现出较高的光泽度和明亮的色彩体验，而且贴服在皮肤表面有着很好的舒适度。它有着优越的铺展性和粘附性能，能够有效的防止油脂分泌或皮肤出汗造成的粉妆脱落。

MCA平板状氧化铝抛光研磨微粉性能指标
粒度分布表 单位微米（μm）
产品名称 dv-0值 dv-3值 dv-50值 dv-94值
MCA40 <.6 39-44.6 27.7-31.7 18-20
MCA35 <.2 35.4-39.8 23.8-27.2 15-17
MCA30 <50.4 28.1-32.3 19.2-22.3 13.4-15.6
MCA25 <40.1 24.4-28.2 16.1-18.7 9.6-11.2
MCA20 <32.0 20.9-24.1 13.1-15.3 8.2-9.8
MCA15 <25.2 14.8-17.2 9.4-11 5.8-6.8
MCA12 <20.3 11.8-13.8 7.6-8.8 4.5-5.3
MCA09 <16.3 8.9-10.5 5.9-6.9 3.3-3.9
MCA05 <12.5 6.6-7.8 4.3-5.1 2.55-3.05
MCA03 <10.0 4.8-5.6 2.8-3.4 1.5-2.1

包装：10公斤/塑料袋，纸箱装，20公斤/箱
产品粒度以客户使用要求标准为准，可以根据客户要求定制。
磨削和研磨等磨料处理，对晶体的切片表面和厚度进行精细加工是半导体晶片加工的重要工序。然而研磨会导致芯片表面的完整性变差。因此，抛光的一致性、均匀性和表面粗糙度对生产芯片来说是十分重要的。其目的是保证晶片达到一定的厚度要求，去除晶片切割中产生的刀痕，并控制表面损伤层的厚度及其一致性。
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